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  • 上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

    上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長(zhǎng)溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

    更新時(shí)間:2023-12-21
    產(chǎn)品型號(hào):
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  • KT-PE500ZPECVD射頻模塊

    PECVD射頻模塊通過(guò)反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長(zhǎng)溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

    更新時(shí)間:2023-12-15
    產(chǎn)品型號(hào):KT-PE500Z
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